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  • 半导体用超高纯金属溅射靶材

    高纯铝和铝合金靶材:1、产物包(bao)含:Al、Al30ppmSi,、Al0.5Si、Al0.75Si、Al0.8Si、Al1Si、Al0.5Cu、AlSiCu等; ..

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  • 液晶平板显现器用高纯金属溅射靶材和零部件

    G4.5、G5、G5.5、G6和G8.5代高纯铝、铜、钼靶材:PVD机台用防着板(ban)和CFRP液晶玻璃搬(ban)运部件:

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  • 太阳能用高纯金属溅射靶材

    高(gao)纯铝、铜、钨钛、镍钒、铬(ge)和钼等靶材:1、产(chan)物(wu)涵盖太阳能行业所利用(yong)的靶材,包含高(gao)纯Al、Cu和粉末冶金靶材(如WTi、NiV、Cr和Mo等);  ..

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  • 半导体用紧密零部件

         PVD机台用Clamp Ring、Collimator:  CVD、etching机台用face plate、..

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